BAO Mask Avenger是一个非常好用的三维路径遮罩顶点切线控制插件,使用这款插件可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点,可在三维空间做路径动画。
插件安装方法
1复制BAO Mask Avenger 2.7.4
文件夹AE安装目录里的plugins里即可,
2打开AE软件使用插件
3使用注册码激活插件: BAOMA2*MONTER*GROUP*202006110231789SUL9
软件特征
Ram预览保护。以前版本的最大问题是Ram预览无效。 通过插件。 Mask Avenger 2.0的新烘焙系统避免了这种情况。 3D面具。 Mask Avenger现在可以在不使用空图层和表达式的情况下控制3D中的蒙版。 然后更快地计算掩模并简化表达式写入。 背景烘焙。当需要修改蒙版时,蒙版复仇者会立即将其转换。 当前时间以及工作区域的其余部分在后台烘焙。这意味着您可以继续工作 面具复仇者忙着烘烤。这取代了«Dynamic»和«bake»模式。 更好的形状层兼容性。与“动态”模式相关的错误随着新的烘焙系统而消失。 工作空间和图层的持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。当然, 烘焙100,000个关键帧需要10多个,但新的烘焙系统可以让您继续工作 它是烘烤。 不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger现在使用AE自己的遮罩功能来更快地运行。 面具预览。 Mask avenger 2.0有一个预览系统,可以动态显示它们之前的变化。 适合面膜。这可以避免表达式,其他图层或相机对蒙版的修改延迟。
- 更新时间2021-07-05
- 测试安装环境(其他版本自行测试)AE2021
- 文件大小1 MB