AE插件-BAO Mask Avenger(遮罩动画插件) V2.7.4 英文版

BAO Mask Avenger是一个非常好用的三维路径遮罩顶点切线控制插件,使用这款插件可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点,可在三维空间做路径动画。

AE插件-BAO Mask Avenger(遮罩动画插件) V2.7.4 英文版插图

插件安装方法

1复制BAO Mask Avenger 2.7.4文件夹AE安装目录里的plugins里即可,

AE插件-BAO Mask Avenger(遮罩动画插件) V2.7.4 英文版插图1

2打开AE软件使用插件

AE插件-BAO Mask Avenger(遮罩动画插件) V2.7.4 英文版插图2

3使用注册码激活插件: BAOMA2*MONTER*GROUP*202006110231789SUL9

AE插件-BAO Mask Avenger(遮罩动画插件) V2.7.4 英文版插图3

软件特征

Ram预览保护。以前版本的最大问题是Ram预览无效。 通过插件。 Mask Avenger 2.0的新烘焙系统避免了这种情况。 3D面具。 Mask Avenger现在可以在不使用空图层和表达式的情况下控制3D中的蒙版。 然后更快地计算掩模并简化表达式写入。 背景烘焙。当需要修改蒙版时,蒙版复仇者会立即将其转换。 当前时间以及工作区域的其余部分在后台烘焙。这意味着您可以继续工作 面具复仇者忙着烘烤。这取代了«Dynamic»和«bake»模式。 更好的形状层兼容性。与“动态”模式相关的错误随着新的烘焙系统而消失。 工作空间和图层的持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。当然, 烘焙100,000个关键帧需要10多个,但新的烘焙系统可以让您继续工作 它是烘烤。 不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger现在使用AE自己的遮罩功能来更快地运行。 面具预览。 Mask avenger 2.0有一个预览系统,可以动态显示它们之前的变化。 适合面膜。这可以避免表达式,其他图层或相机对蒙版的修改延迟。

  • 更新时间2021-07-05
  • 测试安装环境(其他版本自行测试)AE2021
  • 文件大小1 MB

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